美國、荷蘭、日本先後對光刻機等半導體製造設備出口進行限制，我國將於8月1日起對鎵、鍺相關物項實施出口管製。 《證券日報》記者近日就此調研了部分上市公司，採訪了學術界、產業界多位專家。 雖然，國產光刻機廠商——上海微電子裝備股份有限公司（以下簡稱“上海微電子”，SMEE）此前已經量產了自主研發的光刻機，但是其在技術上與國外還存在較大差距。 去年5月，華爲在被美國升級制裁之後，臺積電、中芯國際等晶圓代工廠無法繼續利用美國半導體設備及技術爲華爲海思代工芯片，使得華爲自研的海思芯片出現了斷供。 與此同時，中芯國際在去年年底也被美國列入了實體清單，所需的半導體設備進口受阻，這也嚴重阻礙了其先進製程工藝的發展。 上海微電子光刻機2025 上海微電子的光刻機從90納米到28納米，歷經13年時間才實現三代(60nm、45nm、40nm)技術的跨越，爲何如此艱難？
ASML、Canon 以及Nikon 是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 上海微電子28nm光刻機 光刻機。 從光刻機總體出貨量來看（含非 IC 上海微電子光刻機 前道光刻機），目前全球光刻機出貨量 99%集中在 ASML、Nikon 和Canon 。 快科技引述《証卷日報》消息，上海微電子已經在28nm沉浸式光刻機的研發取得了重大進展。 預計在2023年年底，他們將向市場推出國產的第一臺SSA/800-10W光刻機設備。 光刻機是決定半導體生產工藝水平高低的核心技術，由光學系統、微電子系統、計算機系統、精密機械繫統和控制系統等構件組成，因此極為複雜和精密。 上海微電子裝備(集團)股份有限公司（SMEE）成立於2002年，專注於半導體裝備、泛半導體裝備和高端智能裝備的開發和技術服務。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機: 中國「芯」時代之光刻機：國產光刻機風勁潮湧，任重而道遠原創
從長江存儲、華力微、華虹無錫、中芯紹興以及株洲中車的光刻機採購情況來看，各產線 19Q4 至今光刻機合計採購量可觀，預示其 2020 年內資產線資本支出將進一步提升。 上海微電子光刻機2025 目前光刻機主要可以分為 IC 前道製造光刻機（市場主流）、IC 後道先進封裝光刻機、LED/MEMS/Power Devices 製造用光刻機以及面板光刻機。 賀榮明帶領的上海微電子，僅僅是我國企業在光刻機走向自主可控進程中付出努力的一個縮影。 近日，有消息稱，上海微電子正致力於研發28納米浸沒式光刻機，預計在2023年年底將國產第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付市場。 此前，國家知識產權局公佈了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控製方法”，在極紫外線光刻機核心技術上取得突破性進展。
但是28奈米是成熟工藝，生產成本低，只要不追求極致效能的情況下，這種製程的晶片，其效能也夠用的，用來生產我們日常生活中的電子裝置是沒有問題的，例如電視、電視盒子、音響、電梯、空調、微波爐、冰箱、汽車等等。 今年第三季度新增訂單金額創歷史新高，達到89億歐元，銷售了80臺新的光刻系統和6臺二手光刻機，包括12臺EUV設備(與第二季度一致)和74臺DUV機器(少於第二季度的79臺)。 ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示：“雖然每個細分市場的需求動態存在分化，但我們整體的客戶需求依然強勁。 顯然，對於上海微電子來說，其28nm光刻機的順利推出，將打破國外廠商的對於IC前端光刻機市場的壟斷，可覆蓋更為廣闊的市場需求，特別是在國產替代趨勢之下，將有望大幅提升其光刻機的出貨量、營收和利潤率。 同時，也將幫助中國的晶圓代工廠降低對於國外半導體設備的依賴，進一步提升半導體製造關鍵設備的國產化率，提升中國半導體產業鏈的整體實力。
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這也使得在IC前道光刻機市場，國產化率較低，國內的IC前道光刻機市場主要被ASML、尼康和佳能瓜分。 據上海微電子官網介紹，其主要生產 SSX600 微電子光刻機 和 SSX500 兩個系列的光刻機。 ASML、佳能以及尼康是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 光刻機。 今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而週四被正式列入出口管制清單。
- 此前，國家知識產權局公佈了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控製方法”，在極紫外線光刻機核心技術上取得突破性進展。
- 2020年對於中國半導體行業來說，是砥礪前行的一年，因為美國一紙禁令，必須使用EUV光刻機的華為5奈米晶片，麒麟9000無法生產，讓很多國人既氣憤又無奈。
- 在曝光光源系統方面，2018年3月3日，由國科精密承擔的國家科技重大專項“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目在上海通過了任務正式驗收，會議要求全力做好28nm節點ArFi光刻機曝光光學系統研製。
- 爲活躍於中國市場的VC/PE、上市公司、創業企業、地方政府等提供專業的第三方信息服務，包括行業媒體、智庫服務、會議服務及生態服務。
- 當然，儘管在前道光刻機方面我們的差距還是很大，但上海微電子在後道光刻機上的實力可不弱。
目前全球光刻機龍頭為 ASML，此外，德國 SUSS、日本尼康、美國 Ultratech 等也具備較強實力。 上海微電子表示，當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協定，首臺將於年內交付。 美國一直在遊說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報導，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。 光刻機是生產大規模集成電路的核心裝置，其製造和維護均需要先進和強大的光學及電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握這種技術。 或者你可以這樣理解，在小型裝置中，需要更低製程的晶片，例如手機，因為空間有限，想要實現更好的效能，晶片就需要更加先進的生產工藝。
上海微電子光刻機: 上海微電子28nm光刻機: 中國在芯片和芯片設備國產化方面都取得了進展，美國和ASML傻眼了
隨著國內半導體製造和封測產能的持續擴張，將為國內設備廠商提供更多驗證與導入的機遇，帶動國內產業在技術和市場上的突破。 2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首臺2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於芯片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於芯片上游製造的光刻機[13]。 現今，上海微電子裝備生產的先進封裝光刻機在中國大陸的市佔率達80%，海外市佔率達40%[13]。 2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首臺2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於晶片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於晶片上游製造的光刻機[13]。
目前，華為的超導量子芯片專利技術，大幅提升量子芯片的良率，已經超過了英特爾；本源量子已經研發出中國首個自主研發的超導量子計算機本源悟源。 中國在光刻機技術方面曾站在世界“第一方陣”，1965年研製出了65型接觸式光刻機，1985年研製出的分步光刻機樣機，當時與國外先進水平差距不超過7年，但此後，我國開始從國外購買光刻機。 而與此同時發生的另一件事，雖然沒有像鴻蒙那樣引起巨大的關注，但重要性絲毫不弱於鴻蒙。 工商信息顯示，華為的全資子公司哈勃科技，在2021年6月2日完成了對光刻機光源廠商科益虹源的注資，持有其4.76%的股份。
上海微電子光刻機: 曝光機產品
美國之所以實施“芯片禁令”，主要是因為中國沒有適合的芯片代工廠商可以完成芯片的製造，只能依靠臺積電這一代工廠商進行代工。 其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端 上海微電子28nm光刻機 EUV 光刻機市場。 10月22日消息，據外媒Tomshardware報道，一家俄羅斯研究所正在開發自己的半導體光刻設備，該設備可以被用於7nm製程芯片的製造。 近日，由上海建工四建集團承建的臨港重裝備產業區F16-01地塊項目，舉行了鼎泰匠芯潔淨室交付儀式，首臺ASML光刻機搬入，中國再添一座12英寸車規級功率半導體晶圓廠。 趁着這幾年中國大規模芯片擴產之際，ASML加速交付中國市場DUV光刻機，待中國國產光刻機進入市場時，市場空間還有多少？
上海微電子光刻機: 上海微電子正式交付中國首臺光刻機
居於兩者中間位置的14奈米顯然成為了中堅力量，成為絕大多數中高端晶片的主要製程。 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。 如今，隨著通信和光電子技術應用的發展，人們的生產生活及數字經濟的發展都已經離不開晶片了。 上海微電子光刻機 而作為製造晶片的最核心設備之一，光刻機就成為了困擾半導體產業及整個信息通信產業的「卡脖子」技術。
上海微電子光刻機: 上海微電子28nm光刻機: 光刻機產品
所以，基本上可以做實，上海微電子的確在做可以實現28納米制程的國產DUV光刻機。 二是知名媒體DIGITIMES曾報道，上海微電子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻機，該裝置可實現28奈米工藝。 之前有網友爆料，上海微電子將於2020年12月下線首臺採用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這是一臺國產浸沒式 微電子光刻機 DUV 微電子光刻機 光刻機，可實現單次曝光28nm節點。 還是期待一下國內科技企業能早日攻克EUV光刻機的技術難點，爭取能儘早徹底解決晶片「卡脖子」的問題了。 當然，儘管在前道光刻機方面我們的差距還是很大，但上海微電子在後道光刻機上的實力可不弱。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機: 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付
浙江聯翔智能家居股份有限公司（以下簡稱“聯翔股份”或“公司”）成立於2004年，被譽爲國內“牆布第一…
上海微電子光刻機: 光刻機“卡脖子”問題體現在哪兒？國產光刻機如何突圍
對科益虹源的投資，意味著華為終於要向芯片製造王冠上的明珠——光刻機——發起進攻。 工商信息顯示,上海微電子的第一大股東上海電氣(集團)總公司,上海電氣(集團)總公司持股約32%。 上海電氣(集團)總公司爲上市公司上海電氣(601727)的母公司,上海電氣(601727)是中國最大的綜合性裝備製造企業集團之一。 2009年末，上海微電子實現首臺封裝光刻機產品交付，並於2012年實現封裝光刻機外銷。 上海微電子光刻機2025 如今，中國大陸芯片製造工藝停留在了14nm，而我國想要突破10nm以下工藝，離不開EUV光刻機。 除了上述各領域的創新外，被譽為新一輪科技革命的戰略製高點——量子科學領域，中國位列全球“第一方陣”。
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前段時間，中芯國際在梁孟松的帶領下，用DUV經過多重曝光，實現了N+1工藝，相當於10nm級別，而N+2理論可達7nm級別。 DUV光刻機主要利用光的折射原理，在透鏡和晶圓之間通過採用不同的介質，來改變光刻性能。 而上面我們也提到了，上海微電子已經具備了ARF光刻機的量產能力，所以從佳能的業績大幅增長就可以看出，上海微電子的65奈米光刻機”破冰“也就在情理之中。
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最重要的，當時還是國產光刻機儘早上市，並確保性能、質量，但也還需要國內半導體產業在國產光刻機起步時給以支持。 上海微電子28nm光刻機 近年來，我國對半導體設備的需求增長迅速，在去年已經成爲全球最大的半導體設備市場，各行各業對於芯片的需求量也逐漸加大，然而就在這個關鍵時期，國內諸多企業卻遭到了美國無端制裁。 特別在目前的國際大環境裏，不僅是給所有堅持自主研發企業的興奮劑，也是對外展示我們研發力量的鎮山虎。 微電子光刻機 在全球化的影響下，現在沒有一家科技企業能夠做到所有的產品都由自身提供。 ASML也是如此，儘管它掌握著全球頂尖的技術，產品使用的零部件也要有多個供應商提供。
上海微電子光刻機: 光刻機產品
IT之家報導，有消息稱這所半導體封測廠所用的光刻機設備採用上大陸光刻機龍頭上海微電子28nm光刻機，國產光刻機將從此前的 90nm一舉突破到 28nm製程，同時對於降低國外市場依賴有重要意義。 上海微電子光刻機2025 7月20日，青島新核芯高端封測項目首臺光刻工藝設備進場儀式舉行，出自上海微電子的封裝光刻機順利搬入。 據稱，特斯拉對數據的擔憂可能會阻礙這家電動汽車製造商在中國保持增長的雄心。
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阿斯麥公司甚至公開表示，即便是公開製造光刻機的圖紙，也不可能有人能夠製造出來。 而其中有不少零配件都是來自美國，美國雖然自己不能生產光刻機，但是阿斯麥公司光刻機的生產，還依賴着美國。 目前，全球能生產光刻機的廠商寥寥無幾，荷蘭阿斯麥、日本尼康和佳能佔據了主要市場。 上海微電子光刻機2025 其中，阿斯麥技術最為領先，它是唯一能生產極紫外線光刻機的廠家，這種光刻機可實現7納米甚至5納米工藝。
中新網上海新聞8月30日電(賀霄 於俊)作爲中國發展歷史最久、技術裝備能力最強、交付業績最多的核電… 摘要：近日,被譽爲“光刻機第一股”的華卓精科的科創板IPO申請獲上交所受理,光刻機自主可控再次獲得資本市場關注。 上海微電子光刻機2025 上海微電子光刻機2025 Peter 上海微電子光刻機 Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裏他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。 據路透社報道，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）行政總裁（CEO）Peter Wennink近日表示，中國不太可能獨立造出光刻機，「但也沒那麼絕對（never say never）」。
上海微電子官網顯示,公司是在國家科技部和上海市政府共同推動下,由國內多家企業集團和投資公司共同投資組建的高科技企業。 公司在光刻設備領域擁有全國最先進的技術,高端前道光刻機實現90nm製程,光刻機可以應用於集成電路產業鏈中晶圓製造、封裝測試,以及平板顯示、高亮度LED等領域。 在國家重大科技專項的支持下,上海微電子的IC前道光刻機有望在未來幾年實現45 nm、28 nm製程,逐步縮小與國際先進水平的差距。 據中國方正證券的一份研究報告披露，“在02專項光刻機項目二期中，設定的時間爲2020年12月驗收193納米ArF浸入式DUV光刻機，其製程工藝爲28納米”，即網絡上流傳的28納米光刻機（這個說法當然不準確）。 ASML 週三公佈了創紀錄的收入和利潤，儘管個人電腦和智能手機銷售放緩，但對芯片生產設備的需求創下紀錄，2022年第三季度，ASML實現了淨銷售額58億歐元，毛利率爲51.8%，淨利潤達17億歐元。 正如工銀投行研究中心信息技術行業首席分析師許可源所言，全球半導體產業碎片化趨勢顯現，對於我國半導體產業，國產替代成為未來發展的長期邏輯。
上海微電子光刻機: 微電子光刻機9大伏位
值得欣慰的是2019年5月初，首臺來自荷蘭ASML公司的EUV光刻機目前已經安全抵達中芯國際。 採用ArF光源的浸沒式DUV光刻機是目前全球使用最廣泛的光刻機，可以完成45nm-10nm製程的芯片製造，足以應付絕大部分使用場景，中國芯片製造受制於人的局面將得到根本性的改觀。 CINNO Research半導體事業部總經理Elvis 上海微電子光刻機 Hsu表示，光刻機是半導體製造設備價格佔比最高的部分約25%至30%，其研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。 目前，中國技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子，可以穩定生產90/65納米製造工藝的光刻機。 Peter Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。
尼康、佳能 FPD 光刻技術優勢明顯，基本壟斷了 FPD 光刻機市場，其中尼康份額最高。 根據爆料，ASML將在中國臺灣新北市新建廠區，一期投資將達到300億新臺幣(約合人民幣68.8億元)，約有2000名員工進駐! 500系列面向IC後道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件製造，200系列面向TFT曝光。 實現物聯網部署可擴展性時的主要問題爲什麼三分之二的物聯網項目都失敗了？
不過，大陸國產28nm光刻機的射頻晶片、藍牙晶片、功放晶片、路由器上的晶片、各種電器的驅動晶片等非核心邏輯晶片，仍採用28～90nm製程。 上海微電子光刻機2025 ASML的EUV光刻機是集結全球頂尖科技力量、背靠5000餘家供應商才製造而成。 本機爲電動液壓加荷、傳感器測力、數字顯示力值、打印機打印力值數據、並換算抗壓強度。 本試驗機符合標準《普通混凝土力學性能實驗方法標準》，應手動控制加載速度，並具有加荷速度指示裝置、峯值保持、過載保護功能，是建築、建材、公路橋樑等工程單位試驗檢測設備。
上海微電子光刻機: 上海電氣:母公司爲國產光刻機龍頭上海微電子第一大股東
雖然富士康在封測生產線所採用的光刻機在技術上其實不如芯片製造所需要的光刻機，不過這對於中國的光刻機產業鏈還是有重要的意義，這意味着將爲大陸光刻機產業鏈帶來鉅額的收入。 但是 光刻機製造技術卻一直被美國把控，禁止對中國出口，而如今 中國自主研發出28納米光刻機，得知這一消息，荷蘭光刻機製造商阿斯麥公司，趕緊修改不向中國出口光刻機的條款，甚至大幅度降價向中國拋售光刻機。 其實 上海微電子光刻機2025 歸根結底還是美國的原因，光刻機的製造非常複雜，其中僅零部件就多達十萬個以上，這些原材料來自於全球五十多個國家。
上海微電子光刻機: 光刻機產品
隨着容器的快速發展，容器管理工具Kubernetes也應運而生，目前不僅百度、京東、阿里、Google等大公司在使用K8s，一些中小企業也開始把業務遷移到K8s中。 所以即便是世界出現問題，例如當下的疫情，甚至發生戰爭，對我們都不會有任何影響。 上海微電子光刻機 上海微電子光刻機 1961年，美國GCA公司製造出了第一臺曝光機，從此曝光成為晶片製造中最重要的環節。 在芯片製造的前道工藝環節中，最關鍵、市場規模最大的設備是光刻（光刻曝光）、刻蝕、薄膜沉積（CVD）三大領域。
上海微電子光刻機: 國產光刻機有望取得突破 首臺國產28nm工藝沉浸式光刻機最快年底交付
雖然中國在最先進的EUV光刻機方面起步晚了50年，與國外巨頭存在很大的差距，但在非最先進製程的中高端光刻機方面，上海微電子已經具備自主生產、成熟穩定的產品，並有著較高的市場佔有率。 此外，上海微電子還擁有2.5D/3D封裝光刻機，其精度在0.6微米左右，儘管與前道光刻機有所差距，但仍屬於世界領先水平。 此前，上海微電子公開表示在泛半導體方面有所研究，有多個技術路線，但具體細節不能透露。 根據數據顯示，中國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34％、40％、90％，在塗膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產化率達到10-30％，而在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入方面的國產化率暫時低於5％。 最近ASML的負責人還表示，對中國的芯片出口禁令，傷害最大的恰恰是歐美半導體行業，他甚至預測，15年之內，中國將會追趕上來，有能力生產任何產品。
上海微電子28nm光刻機 至於生產華爲麒麟處理器所急需的EUV光刻機，我們的技術差距還太大，短期內是很難搞定。 “近年來，在許多科技創新的關鍵領域，我國取得的成果可圈可點，一些企業脫穎而出進入國際市場參與全球化競爭，這與我國高度重視並出臺產業政策進行資源支持密不可分。 ”中央財經大學數字經濟融合創新發展中心主任陳端向《證券日報》記者表示。 上海微電子副董事長賀榮明在受訪時表示：“2002年，我國專家出國考察時，對方工程師說，哪怕把所有圖紙都給你們，你們也未必能做出光刻機。 ”回國後，賀榮明帶領團隊夜以繼日攻關，研發團隊經過5年終於在曝光這個關鍵環節取得重大突破，之後不斷闖關。 上海微電子光刻機 目前，上海微電子已可量產90納米解像度的SSX600系列光刻機，28納米解像度的光刻機也有望取得突破。
