目前光刻機主要可以分為 IC 前道製造光刻機（市場主流）、IC 上海微電子光刻機2025 後道先進封裝光刻機、LED/MEMS/Power Devices 製造用光刻機以及面板光刻機。 賀榮明帶領的上海微電子，僅僅是我國企業在光刻機走向自主可控進程中付出努力的一個縮影。 近日，有消息稱，上海微電子正致力於研發28納米浸沒式光刻機，預計在2023年年底將國產第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付市場。 此前，國家知識產權局公佈了一項華為新的專利“反射鏡、光刻裝置及其控製方法”，在極紫外線光刻機核心技術上取得突破性進展。
- 在國家重大科技專項的支持下,上海微電子的IC前道光刻機有望在未來幾年實現45 nm、28 nm製程,逐步縮小與國際先進水平的差距。
- 近日,被譽爲“光刻機第一股”的華卓精科的科創板IPO申請獲上交所受理,光刻機自主可控再次獲得資本市場關注。
- 美國一直在遊說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。
- 所以如何將國產光刻機的技術提升上來,達到當前國產芯片的製造水平,已經是迫不及待的問題了,不說EUV,好歹來個DUV光刻機,也就是193nm ArF浸潤式光刻機吧,這樣至少能夠撐到7nm以上。
但是28奈米是成熟工藝，生產成本低，只要不追求極致效能的情況下，這種製程的晶片，其效能也夠用的，用來生產我們日常生活中的電子裝置是沒有問題的，例如電視、電視盒子、音響、電梯、空調、微波爐、冰箱、汽車等等。 上海微電子光刻機 今年第三季度新增訂單金額創歷史新高，達到89億歐元，銷售了80臺新的光刻系統和6臺二手光刻機，包括12臺EUV設備(與第二季度一致)和74臺DUV機器(少於第二季度的79臺)。 ASML總裁兼首席執行官Peter 上海微電子光刻機2025 Wennink表示：“雖然每個細分市場的需求動態存在分化，但我們整體的客戶需求依然強勁。 顯然，對於上海微電子來說，其28nm光刻機的順利推出，將打破國外廠商的對於IC前端光刻機市場的壟斷，可覆蓋更為廣闊的市場需求，特別是在國產替代趨勢之下，將有望大幅提升其光刻機的出貨量、營收和利潤率。
上海微電子光刻機: 市場合作
這也使得在IC前道光刻機市場，國產化率較低，國內的IC前道光刻機市場主要被ASML、尼康和佳能瓜分。 據上海微電子官網介紹，其主要生產 SSX600 微電子光刻機 和 SSX500 兩個系列的光刻機。 ASML、佳能以及尼康是全球光刻機市場的主要供應商，其中 ASML 在高端市場一家獨大並且壟斷 EUV 光刻機。 今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而週四被正式列入出口管制清單。 在晶片封測上，大陸有三大巨頭，分別是長蘇長電、通富微電、天水華天，這三大巨頭可以排進全球前10，目前能夠封測的晶片都達到了5nm，都是全球領先水平。
2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首臺2.5D/3D先進封裝曝光機的交付儀式，但該機器是用於晶片下游製造的先進封裝曝光機，並非此前關注的用於晶片上游製造的曝光機[13]。 上海微電子光刻機2025 現今，上海微電子裝備生產的先進封裝曝光機在中國大陸的市佔率達80%，海外市佔率達40%[13]。 上海微電子光刻機 上海微電子裝備（集團）股份有限公司（簡稱SMEE）是中國大陸半導體裝備製造商，主要生產半導體裝備、泛半導體裝備、高端智慧型裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務[1]。
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在這種良好土壤下，中國“晶片”向上生長的過程中唯獨稀缺時間而已，所以我們完全有理由相信晶片供應鏈能夠充分國產化。 其次是被忽視的日本企業尼康和佳能，很多人知道尼康和佳能在光學元器件方面享譽全球，但二者在中低端光刻機裝置領域也佔著一席之地。 從中可以看出，如今阿斯麥爾在全球市場的發展態勢其實並不樂觀，如今我國在EUV光刻機領域進一步實現了破冰，到時候未必就不會成為阿斯麥爾的競爭壓力和發展阻力，不利於阿斯麥爾的發展個進步。 雖然中國在最先進的EUV光刻機方面起步晚了50年，與國外巨頭存在很大的差距，但在非最先進製程的中高端光刻機方面，上海微電子已經具備自主生產、成熟穩定的產品，並有著較高的市場佔有率。
工商信息顯示，華為的全資子公司哈勃科技，在2021年6月2日完成了對光刻機光源廠商科益虹源的注資，持有其4.76%的股份。 上海微電子光刻機 對科益虹源的投資，意味著華為終於要向芯片製造王冠上的明珠——光刻機——發起進攻。 工商信息顯示,上海微電子的第一大股東上海電氣(集團)總公司,上海電氣(集團)總公司持股約32%。
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你想，中國完全獨立自主生產的光刻機，起步階段必然存在穩定性差、成本高，以及客戶信任尚未建立的現實困難。 此時ASML以成熟穩定的技術和產品，一定可以拿到中國客戶的大量訂單，對國產光刻機造成巨大市場壓力。 上海微電子28nm光刻機 至於生產華爲麒麟處理器所急需的EUV光刻機，我們的技術差距還太大，短期內是很難搞定。 “近年來，在許多科技創新的關鍵領域，我國取得的成果可圈可點，一些企業脫穎而出進入國際市場參與全球化競爭，這與我國高度重視並出臺產業政策進行資源支持密不可分。 ”中央財經大學數字經濟融合創新發展中心主任陳端向《證券日報》記者表示。
前道光刻機就是我們平時關注的光刻機，ASML的EUV光刻機，也是前道光刻機，用於把電路圖刻到矽晶圓上的，這纔是我們最缺少的、急需突破的光刻機。 上海微電子光刻機 在晶片製造過程中，有兩種光刻機，一種叫做前道光刻機，一種叫做後道光刻機，對應的是晶片製造工藝流程中的前道工藝、後道工藝。 而且美國硅谷的光刻機，幾乎全部都是從荷蘭進口的，阿斯麥的最大僱主是美國，美國對中國實施芯片制裁，阿斯麥自然要緊跟美國的步伐，禁止對中國出口光刻機。 在2018年的4月，中國曾向阿斯麥公司花1.2億訂購了一臺EUV光刻機，而荷蘭政府同意了這個交易。 美國數次聯繫荷蘭，禁止阿斯麥公司賣給中國EUV光刻機，最終 荷蘭放棄了這筆大生意，不願意交付光刻機。
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居於兩者中間位置的14奈米顯然成為了中堅力量，成為絕大多數中高端晶片的主要製程。 上海微電子光刻機 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。 如今，隨著通信和光電子技術應用的發展，人們的生產生活及數字經濟的發展都已經離不開晶片了。 而作為製造晶片的最核心設備之一，光刻機就成為了困擾半導體產業及整個信息通信產業的「卡脖子」技術。 值得欣慰的是2019年5月初，首臺來自荷蘭ASML公司的EUV光刻機目前已經安全抵達中芯國際。 採用ArF光源的浸沒式DUV光刻機是目前全球使用最廣泛的光刻機，可以完成45nm-10nm製程的芯片製造，足以應付絕大部分使用場景，中國芯片製造受制於人的局面將得到根本性的改觀。
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最重要的，當時還是國產光刻機儘早上市，並確保性能、質量，但也還需要國內半導體產業在國產光刻機起步時給以支持。 上海微電子28nm光刻機 上海微電子光刻機 近年來，我國對半導體設備的需求增長迅速，在去年已經成爲全球最大的半導體設備市場，各行各業對於芯片的需求量也逐漸加大，然而就在這個關鍵時期，國內諸多企業卻遭到了美國無端制裁。 特別在目前的國際大環境裏，不僅是給所有堅持自主研發企業的興奮劑，也是對外展示我們研發力量的鎮山虎。 微電子光刻機 在全球化的影響下，現在沒有一家科技企業能夠做到所有的產品都由自身提供。
上海微電子光刻機: 光刻機產品
之前有各種說法,基本上都是講上海微電子的DUV光刻機快要出來了,能夠支持到28nm工藝,但後來基本被證實不太靠譜,因爲沒有按照之前的時間發佈。 上海微電子光刻機2025 所以如何將國產光刻機的技術提升上來,達到當前國產芯片的製造水平,已經是迫不及待的問題了,不說EUV,好歹來個DUV光刻機,也就是193nm ArF浸潤式光刻機吧,這樣至少能夠撐到7nm以上。 業內人士普遍表示，我國企業加快核心領域自主研發，光刻機產業鏈上下遊正不斷湧現出新進展、新成果，國產化加速向前。 根據日媒的報道稱，近日ASML方面召開了財報電話會議，在財報電話會議上，ASML總裁溫寧克談到了當下的晶片短缺問題，其表示沒有任何跡象表明需求會放緩，晶片產能仍將嚴重短缺。
上海微電子光刻機: 曝光機產品
ASML也是如此，儘管它掌握著全球頂尖的技術，產品使用的零部件也要有多個供應商提供。 所以，基本上可以做實，上海微電子的確在做可以實現28納米制程的國產DUV光刻機。 二是知名媒體DIGITIMES曾報道，上海微電子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻機，該裝置可實現28奈米工藝。 上海微電子光刻機 上海微電子光刻機 之前有網友爆料，上海微電子將於2020年12月下線首臺採用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這是一臺國產浸沒式 微電子光刻機 DUV 上海微電子光刻機 微電子光刻機 上海微電子光刻機 光刻機，可實現單次曝光28nm節點。 還是期待一下國內科技企業能早日攻克EUV光刻機的技術難點，爭取能儘早徹底解決晶片「卡脖子」的問題了。
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據瞭解,目前國內光刻機處於技術領先的是上海微電子,其最先進的ArF光源光刻機節點爲90nm,中國企業技術整體較爲落後,在先進製程方面與國外廠商仍有較大差距。 IT之家報導，有消息稱這所半導體封測廠所用的光刻機設備採用上大陸光刻機龍頭上海微電子28nm光刻機，國產光刻機將從此前的 90nm一舉突破到 28nm製程，同時對於降低國外市場依賴有重要意義。 7月20日，青島新核芯高端封測項目首臺光刻工藝設備進場儀式舉行，出自上海微電子的封裝光刻機順利搬入。 據稱，特斯拉對數據的擔憂可能會阻礙這家電動汽車製造商在中國保持增長的雄心。 到2020年產品將與整機單位共同完成28nm國產光刻機的集成工作，對我國集成電路產業發展具有重大意義。 此外，芯智訊也並未在網上找到相關證據，支持這個11nm光刻機將於年底下線的說法。
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當然，儘管在前道光刻機方面我們的差距還是很大，但上海微電子在後道光刻機上的實力可不弱。 萬物生長靠太陽，高階晶片的發展如今也只能依靠先進光刻機，可能會有種不一樣的聲音，不是有晶片堆疊，不是有晶片封裝嗎？ 如果12nm的芯片成功量產，那也就意味着我們離擺脫依賴國外進口芯片的局面更進一步。 與此同時我們也避免了被西方國家扼住脖子的風險，所以這款芯片和光刻機對於我們的意義是非同尋常的。 目前產線中光刻機主要依賴於進口，以中國產線長江存儲為例，其光刻機全部來自於 上海微電子光刻機2025 ASML 和Canon 。
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此外，上海微電子還擁有2.5D/3D封裝光刻機，其精度在0.6微米左右，儘管與前道光刻機有所差距，但仍屬於世界領先水平。 上海微電子光刻機 上海微電子光刻機2025 此前，上海微電子公開表示在泛半導體方面有所研究，有多個技術路線，但具體細節不能透露。 根據數據顯示，中國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34％、40％、90％，在塗膠顯影、刻蝕、真空鍍膜的國產化率達到10-30％，而在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入方面的國產化率暫時低於5％。
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日前，有消息稱上海微電子有望最快年底向市場交付首臺國產28nm工藝沉浸式前道光刻機。 一是因爲光刻機是芯片製造最爲關鍵的設備之一，二是因爲這也是當前被“卡脖子”的設備，中芯國際訂購的ASML公司EUV光刻機無法發貨，已經嚴重影響到了7nm以下的先進製程工藝研發。 2019年，臺積電、三星電子、英特爾分別都收到了ASML的EUV光刻機，因此華爲如果想加工它的7納米芯片，只能找這些公司，但分析來看，只有三星電子或許有一些可能。 尼康、佳能 FPD 光刻技術優勢明顯，基本壟斷了 FPD 光刻機市場，其中尼康份額最高。
上海微電子光刻機: 上海微電子裝備
在國家重大科技專項的支持下,上海微電子的IC前道光刻機有望在未來幾年實現45 nm、28 nm製程,逐步縮小與國際先進水平的差距。 據中國方正證券的一份研究報告披露，“在02專項光刻機項目二期中，設定的時間爲2020年12月驗收193納米ArF浸入式DUV光刻機，其製程工藝爲28納米”，即網絡上流傳的28納米光刻機（這個說法當然不準確）。 ASML 週三公佈了創紀錄的收入和利潤，儘管個人電腦和智能手機銷售放緩，但對芯片生產設備的需求創下紀錄，2022年第三季度，ASML實現了淨銷售額58億歐元，毛利率爲51.8%，淨利潤達17億歐元。 正如工銀投行研究中心信息技術行業首席分析師許可源所言，全球半導體產業碎片化趨勢顯現，對於我國半導體產業，國產替代成為未來發展的長期邏輯。 隨著國內半導體製造和封測產能的持續擴張，將為國內設備廠商提供更多驗證與導入的機遇，帶動國內產業在技術和市場上的突破。 上海微電子光刻機 2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首臺2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於芯片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於芯片上游製造的光刻機[13]。
科益虹源這家公司的名字極少出現在公眾視野，但從官方披露的直言片語的信息還是不難看出，這是一家在中國半導體產業鏈上極其重要的公司。 上海微電子光刻機 不僅如此，工信部科技司也於2月公佈了《全國集成電路標準化技術委員會籌建公示》。 近日,被譽爲“光刻機第一股”的華卓精科的科創板IPO申請獲上交所受理,光刻機自主可控再次獲得資本市場關注。
上海微電子光刻機: 科技焦點
2022年7月7日，上海微電子裝備舉行了首臺2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式，但該機器是用於芯片下游製造的先進封裝光刻機，並非此前關注的用於芯片上游製造的光刻機[13]。 現今，上海微電子裝備生產的先進封裝光刻機在中國大陸的市佔率達80%，海外市佔率達40%[13]。 目前，上海微電子已經申請專利數量已經達到了3380項，形成了一定的技術護城河。 2016年，上海微電子實現掃描投影光刻機量產，該系列光刻機最高可生產90nm製程芯片，進一步提升了國產芯片的國產率。 12月6日消息，近日有中國臺灣地區的報道稱，11月26日在青島正式投產的富士康集團首座晶圓級封測廠，引進多達46臺上海微電子生產的28nm光刻機，並同時稱這意味着大陸生產的光刻機實現從90nm到28nm的跨越。 上海微電子本身起步就晚，而且不論是在人員數量、營收規模，還是研發投入上，與ASML都有着巨大的差距。
美國之所以實施“芯片禁令”，主要是因為中國沒有適合的芯片代工廠商可以完成芯片的製造，只能依靠臺積電這一代工廠商進行代工。 其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端 上海微電子28nm光刻機 EUV 光刻機市場。 10月22日消息，據外媒Tomshardware報道，一家俄羅斯研究所正在開發自己的半導體光刻設備，該設備可以被用於7nm製程芯片的製造。 近日，由上海建工四建集團承建的臨港重裝備產業區F16-01地塊項目，舉行了鼎泰匠芯潔淨室交付儀式，首臺ASML光刻機搬入，中國再添一座12英寸車規級功率半導體晶圓廠。 趁着這幾年中國大規模芯片擴產之際，ASML加速交付中國市場DUV光刻機，待中國國產光刻機進入市場時，市場空間還有多少？
